基于220nm頂硅的SOI襯底進行流片和工藝開發，提供定制化流片服務
基于220nm頂硅的SOI襯底的光子集成流片服務為了滿足客戶的特殊工藝要求，可提供工藝定制服務。
主要工藝模塊包括：180nm精度DUV光刻、220nm/150nm/70nm高精度刻蝕工藝、 增強型Poly-Si光柵工藝、鍺材料外延工藝、高速調制器和鍺探測器的摻雜工藝、介質材料生長工藝、TiN加熱器電極工藝、 鎢填充孔工藝、硅和鍺的歐姆接觸及金屬互連工藝等。
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