基于石英基底進行流片和工藝開發,提供定制化流片服務
主要工藝模塊包括:180nm精度DUV光刻、 500nm精度i-line光刻、二氧化硅、氮化硅、非晶硅材料沉積、干法刻蝕以及金屬反射鏡等工藝。
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